一、开发专用光刻机的必要性：1.电力电子器件（PSD）和薄膜电子器件（TFD）在中国目前发展很快，而且经济效益比集成电路好得多，前者对节约能源，后者对提高控制系统的可靠性都起着十分关键的作用。PSD和TFD的芯片有一个共同特点，图形结构面积和最小特征尺寸都是特别大，因此借用集成电路光刻机与其说不好用，不如说根本就不能用。这样势必严重影响技术与质量的进一步提高，他们迫切需要自己行业的专用光刻机。2.国外电力电子器件和薄膜电路器件的芯片光刻专用设备目前只有薄膜光刻机，但这两者廉顾的专用光刻机还没有。二、该项目方案设计的特点（与国外同类型比）：1.独特的全幅对准分离视场显微系统，既有超低倍大视场又有可以高倍小视场精密对准的特点，因此它既适用于电力电子器件、薄膜电路，也可适用于半导体集成电路，使用范围很广。2.具有纯接近式曝光特点，这样可以显著提高光刻质量从而提高成品率。3.可以直接应用X光软片进行光刻。4.高精度预定位系统可以确保安全自动操作。